Zeiss CrossBeam 350 聚焦离子束万州扫描电镜 (FIB-SEM）

　　这是一款*进的 (FD) 万州扫描电子显微镜 (SEM)，配备获得*利的 Gemini 电子光学系统，并针对镓 (Ga) 聚焦离子束 (FIB) 进行了优化。Gemini 镜筒与 Gemini 460 SEM 中的 Gemini 2 镜筒基本相同，操作性方面仅有细微差别。它还具有可变压力和卓越的低电压成像能力。它配备了与 Gemini 60 SEM 类似的探测器范围：

　　二次电子/二次离子探测器

　　与 Everhart-Thornley SE 探测器类似，但也能检测二次离子

　　可变压力 SE 探测器)

　　InLens SE 探测器

　　Inlens EsB 探测器

　　可变压力 BSE 探测器

　　万州蔡司万州扫描电镜CrossBeam 350 FIB-SEM 与 Gemini 460 SEM 的主要区别在于增加了 Ga 聚焦离子束。Ga 离子束可用于“研磨”/溅射表面原子。通过这种方式，它能够在表面特征上切割沟槽以分析横截面特性，制备微米级特征(例如用于后续压缩测试的柱状体)，以及制备 TEM 薄片。

　　蔡司万州扫描电镜CrossBeam 350 FIB-SEM

　　适合：

　　高分辨率成像，尤其适用于低kV成像条件下的敏感样品。

　　通过 BSE 成像进行相位分析。

　　使用 EDS 进行材料元素分析和相位识别。

　　使用 EBSD 进行相识别和晶粒尺寸分析。

　　TEM 薄片制备。

　　结合 BSE、EDS 和 EBSD 分析进行 3D 体积表征。